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镀膜设备


ZCD系列磁控溅射镀膜机

技术参数:

◆型号:ZCD1914(多靶位单体磁控溅射)

◆阴极:max.12 副平面阴极外加一副AF蒸发源

◆本底真空:≤6.7E-6 mbar

◆加热温度:up to 200°C

◆应用行业:光学镀膜,AF,AR,彩色转印镀膜等

 


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